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日本filmetrics自動(dòng)測繪膜厚測量系統(tǒng)F50 測厚儀

日本filmetrics自動(dòng)測繪膜厚測量系統(tǒng)F50 測厚儀

更新日期:2024-05-15

訪問量:1443

廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

生產(chǎn)地址:

簡要描述:
日本filmetrics自動(dòng)測繪膜厚測量系統(tǒng)F50
F50自動(dòng)測繪膜厚測量系統(tǒng)是將基于光學(xué)干涉原理的膜厚測量功能與自動(dòng)高速載物臺(tái)相結(jié)合的系統(tǒng)。

日本filmetrics自動(dòng)測繪膜厚測量系統(tǒng)F50

F50自動(dòng)測繪膜厚測量系統(tǒng)是將基于光學(xué)干涉原理的膜厚測量功能與自動(dòng)高速載物臺(tái)相結(jié)合的系統(tǒng)。
以過去無法想象的速度測量規(guī)定點(diǎn)的膜厚和折射率。它支持從2英寸到450毫米的硅基板,并且可以規(guī)定任何測量點(diǎn)。
還有與大型玻璃基板兼容的可選產(chǎn)品。

主要特點(diǎn)

  • 結(jié)合基于光學(xué)干涉原理的膜厚測量功能和自動(dòng)高速載物臺(tái)的系統(tǒng)

  • 以過去無法想象的速度測量規(guī)定點(diǎn)的膜厚和折射率

  • 兼容2英寸至450毫米的硅基板,可規(guī)定任何測量點(diǎn)

主要應(yīng)用

半導(dǎo)體
抗蝕劑、氧化膜、氮化膜、非晶/多晶硅、拋光硅片、化合物半導(dǎo)體襯底、?T襯底等。
平板單元間隙、聚酰亞胺、ITO、AR膜、
各種光學(xué)膜等。
薄膜太陽能電池CdTe、CIGS、非晶硅等

砷化鋁鎵(AlGaAs)、磷化鎵(GaP)等

產(chǎn)品陣容

模型F50-UVF50F50-近紅外F50-EXRF50-UVX
測量波長范圍190-1100nm380-1050nm950-1700nm380-1700nm190-1700nm
膜厚測量范圍5nm-40μm20nm-70μm100nm-250μm20nm-250μm5nm-250μm
準(zhǔn)確性*± 0.2% 薄膜厚度± 0.4% 薄膜厚度± 0.2% 薄膜厚度
1納米2納米3納米2納米1納米
測量光斑直徑兼容標(biāo)準(zhǔn)1.5mm
0.5mm、0.2mm、0.1mm(可選)
光源

氘·

鹵素

鹵素

氘·

鹵素




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